嘴唇哆嗦了两下。

“均匀的。”

她的声音带着哭腔。

“深度完全一致。”

王铁山冲过去，把她从椅子上挤开，自己趴到目镜上看。

“林总。”司徒渊开口。

“嗯。”

“流片成功了，但这只是工程样片。”

司徒渊推了推眼镜。

“量产之前，还差最后一步，”

“封装，测试。”

林希转头看向窗外。

七月底的津门，太阳正落。

晚霞把整个二厂的厂房染成暗红色。

司徒渊不知道什么时候走到他旁边。

两人并排站着，看着窗外。

【1983年！自主光刻机+自主离子注入！流片流程打通！】

【这帮老师傅是真的牛，参数给到位了，手上的活一点不含糊】

【哭了哭了，跪在地上画版图，趴在机器前调参数，这就是华国芯片的第一步】

林希站在车间中央。

周围是沸腾的欢呼声。

真空度读数开始往下掉。

10的负3次方。

负4次方。

分子泵的声音变得尖锐。

负5次方。

看完，他直起腰，一屁股坐在了地上。

“成了。”

两个字。

直播间弹幕彻底爆炸。

【流片成功！！！华国硅基芯片流片成功了！！！】

她把硅片放上载物台，调焦。

看了三秒。

又调了一下倍率。

再看了五秒。

她抬起头。

稳住了。

“注入。”林希说。

苏佩兰按下启动键。

机器轰鸣声骤然变调，像一头沉睡的野兽被唤醒。

离子束击中硅片表面。

王铁山没再犹豫。

他抱着扳手绕到机器背面，拧开旁通阀。

苏佩兰深吸一口气，坐回操作台。

束流电流：10mA。

加速电压：50keV。

六十秒。

一百二十秒。

注入结束。

苏佩兰取出硅片，双手端着，走到显微镜前。

车间里所有人的呼吸都停了。

第331章 流片成功！ (第3/3页)

“能拉到。”

他直起腰，

“负5次方没问题，就是没人敢这么用。”

“那就用。”林希说。

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